蒸发材料
电子束蒸发法是真空蒸发镀膜的一种，是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料，使蒸发材料气化并向基板输运，在基底上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，可避免蒸发材料与坩埚壁发生反应影响薄膜的质量，因此，电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜，同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚，实现同时或分别蒸发，沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发，任何材料都可以被蒸发，不同材料需要采用不同类型的坩埚以获得所要达到的蒸发率。
Goodwill可以提供1~3mm，3~6mm等不同尺寸的蒸发材料。
单质蒸发材料
高纯金属蒸发材料
名称
分子式
纯度
名称
分子式
纯度
高纯银
Ag
3N~5N
高纯镍
Ni
3N~5N
高纯铝
Al
3N~5N
高纯铅
Pb
3N~5N
高纯金
Au
3N~5N
高纯钯
Pd
3N~5N
高纯铋
Bi
3N~5N
高纯铂
Pt
3N~5N
高纯镉
Cd
3N~5N
高纯锑
Sb
3N~5N
高纯钴
Co
3N~5N
高纯硒
Se
3N~5N
高纯铬
Cr
3N~5N
高纯硅
Si
3N~5N
高纯铜
Cu
3N~5N
高纯锡
Sn
3N~5N
高纯铁
Fe
3N~5N
高纯钽
Ta
3N~5N
高纯锗
Ge
3N~5N
高纯碲
Te
3N~5N
高纯铟
In
3N~5N
高纯钛
Ti
3N~5N
高纯镁
Mg
3N~5N
高纯钨
W
3N~5N
高纯锰
Mn
3N~5N
高纯锌
Zn
3N~5N
高纯钼
Mo
3N~5N
高纯锆
Zr
3N~5N
高纯铌
Nb
3N~5N
3N~5N
化合物蒸发材料
氧化物蒸发材料
名称
分子式
纯度
名称
分子式
纯度
氧化铝
AL2O3
3N~5N
氧化钪
Sc2O3
3N~5N
氧化铋
Bi2O3
3N~5N
氧化钐
Sm2O3
3N~5N
氧化铬
Cr2O3
3N~5N
一氧化钛
TiO
3N~5N
氧化铈
CeO2
3N~5N
二氧化钛
TiO2
3N~5N
氧化铒
Er2O3
3N~5N
三氧化二钛
Ti2O3
3N~5N
二氧化铪
HfO2
3N~5N
氧化钒
V2O5
3N~5N
氧化铟锡
ITO
3N~5N
三氧化钨
WO3
3N~5N
氧化镁
MgO
3N~5N
氧化钇
Y2O3
3N~5N
氧化铌
Nb2O5
3N~5N
氧化锆
ZrO2
3N~5N
氧化钕
Nd2O3
3N~5N
氧化锌
ZnO
3N~5N
一氧化硅
SiO
3N~5N
氧化镍
NiO
3N~5N
二氧化硅
SiO2
3N~5N
氟化物蒸发材料
名称
分子式
纯度
名称
分子式
纯度
氟化钡
BaF2
3N~5N
氟化镧
LaF3
3N~5N
氟化钙
CaF2
3N~5N
氟化镁
MgF2
3N~5N
氟化铈
CeF3
3N~5N
氟化钠
NaF
3N~5N
氟化镝
DyF3
3N~5N
氟化钕
NdF3
3N~5N
氟化饵
ErF3
3N~5N
氟化锶
SrF3
3N~5N
氟化钾
KF
3N~5N
氟化钐
SmF3
3N~5N
氟化镱
YbF3
3N~5N
氟化钇
YF3
3N~5N
其他化合物蒸发材料
名称
分子式
纯度
名称
分子式
纯度
氮化铝
AlN
3N~5N
钛酸镨
PrTiO3
3N~5N
氮化硼
BN
3N~5N
碳化硅
SiC
3N~5N
钛酸钡
BaTiO3
3N~5N
钛酸锶
SrTiO3
3N~5N
硫化铜
CuS
3N~5N
氮化硅
Si3N4
3N~5N
碳化铪
HfC2
3N~5N
氮化钛
TiN
3N~5N
钛酸镧
LaTiO3
3N~5N
硒化锌
ZnSe
3N~5N
冰晶石
Na3AiF6
3N~5N
硫化锌
ZnS
3N~5N
掺杂化合物蒸发材料
名称
分子式
纯度
名称
分子式
纯度
氧化铝+氧化钛
Al2O3+TiO2
3N~5N
氧化钛+氧化钽
TiO2+Ta2O5
3N~5N
氧化铝+氧化锌
Al2O3+ZnO
3N~5N
氧化钛+氧化铌
TiO2+Nb2O
3N~5N
氧化铝+氧化镁
Al2O3+MgO
3N~5N
氧化锆+氧化钽
ZrO2+Ta2O5
3N~5N
氟化铈+氟化钙
CeF3+CaF2
3N~5N
氧化锆+氧化钇
ZrO2+Y2O3
3N~5N
氧化铟+氧化锡
In2O3+SnO2
3N~5N
氧化锆+氧化铝
ZrO2+Al2O3
3N~5N
氧化锡功能膜料
SnO2+Pt/Pd
3N~5N
氧化锆氧化钛
ZrO2+Ti3O5
3N~5N